化學清洗和安全知識
1 化學清洗
在半導體器件工藝實驗中?；瘜W清洗是指去除吸附在半導體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質或油漬。清洗方法是利用各種化學試劑和有機助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質和油類發生化學反應溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，得到干凈的表面。
1.1 化學清洗的重要性
工藝實驗中的每個實驗都有化學清洗的問題?；瘜W清洗的質量對實驗結果有嚴重影響。如果過程處理不當，將得不到實驗結果或實驗結果很差。因此，了解化學清洗的作用和原理對工藝實驗具有重要意義。眾所周知，半導體的重要特性之一是對雜質非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質，就會對半導體的物理性能產生影響。方法。各種功能半導體器件的制造。但也正是因為這個特點，給半導體器件的工藝實驗帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學試劑、生產工具和水可能成為有害雜質的來源。即使是干凈的半導體晶圓更長時間暴露在空氣中也會引入明顯的污染物?；瘜W清洗是去除有害雜質，保持硅片表面清潔。
